Samsung bị phạt vì sự cố rò rỉ phóng xạ ở Hàn Quốc

Theo dõi Báo Gia Lai trên Google News
Samsung đang đối mặt với làn sóng chỉ trích mạnh mẽ sau khi hai công nhân của họ phải nhập viện do tiếp xúc với bức xạ nguy hiểm.

Theo Neowin, sự cố xảy ra vào ngày 27.5.2024 khi các công nhân Samsung làm việc với thiết bị phân tích chất bán dẫn đã tiếp xúc với tia X mạnh tại nhà máy bán dẫn Giheung, nằm cách Seoul (Hàn Quốc) khoảng 40 km về phía nam. Việc tiếp xúc đã khiến hai công nhân phải nhập viện do gặp các triệu chứng như sưng ngón tay và phát ban đỏ.

Một nhà máy sản xuất bán dẫn của Samsung tại Pyeongtaek, tỉnh Gyeonggi, Hàn Quốc

Một nhà máy sản xuất bán dẫn của Samsung tại Pyeongtaek, tỉnh Gyeonggi, Hàn Quốc

Hai công nhân đã tiếp xúc với mức độ bức xạ ở mức 94 sievert và 28 sievert, cao hơn đáng kể so với ngưỡng an toàn là 0,5 sievert. Các xét nghiệm máu ban đầu không cho thấy bất thường về nhiễm sắc thể, tuy nhiên các cơ quan chức năng tiếp tục theo dõi tình trạng sức khỏe của họ.

Cụ thể, Ủy ban An toàn và An ninh Hạt nhân (NSSC) Hàn Quốc đã tiến hành một cuộc điều tra sâu rộng và phát hiện nhiều thiếu sót trong giao thức an toàn và an ninh quan trọng của Samsung. Đáng chú ý, một thiết bị an toàn tự động không kích hoạt để ngăn chặn bức xạ, đồng thời ba trong số tám hệ thống an toàn tại nhà máy không hoạt động do có sự can thiệp không rõ nguồn gốc.

Sau khi phát hiện ra các sai sót, NSSC đã quyết định phạt Samsung số tiền 10,5 triệu won (khoảng 7.900 USD) vì quản lý kém các thiết bị an toàn. Ngoài ra, một cuộc điều tra chính thức của cảnh sát có thể được tiến hành để làm rõ trách nhiệm trong vụ việc. Để đảm bảo an toàn cho công nhân, Samsung đã đình chỉ việc sử dụng các thiết bị liên quan và cam kết hợp tác chặt chẽ với NSSC trong quá trình điều tra.

Bên cạnh đó, Samsung cũng đưa ra tuyên bố khẳng định sẽ hỗ trợ các công nhân bị ảnh hưởng và thực hiện các biện pháp cần thiết để ngăn ngừa sự cố tương tự xảy ra trong tương lai.

Theo Kiến Văn (TNO)

Có thể bạn quan tâm

Trung Quốc dùng AI lập bản đồ địa chất toàn sao Hỏa

Trung Quốc dùng AI lập bản đồ địa chất toàn sao Hỏa

(GLO)- Trung Quốc đặt mục tiêu đến cuối năm 2028 hoàn thành bản đồ địa chất thế hệ mới bao phủ toàn bộ sao Hỏa với sự hỗ trợ của trí tuệ nhân tạo (AI), phục vụ nghiên cứu lịch sử địa chất hành tinh đỏ và chuẩn bị cho sứ mệnh Thiên Vấn-3.

Singapore tăng tốc chuẩn bị vắc xin mRNA ứng phó đại dịch mới

Singapore tăng tốc chuẩn bị vắc xin mRNA ứng phó đại dịch mới

(GLO)- Singapore đang chuẩn bị hỗ trợ chương trình thí điểm phát triển và sản xuất vắc xin cúm mRNA trong nước, nhằm tăng cường năng lực ứng phó với các đại dịch tương lai, trong đó có nguy cơ từ một mầm bệnh chưa được xác định, được Tổ chức Y tế Thế giới (WHO) gọi là “Disease X”.

gia-lai-mua-eSIM Viettel-chi-125.000đ

Trải nghiệm vượt trội với eSIM Viettel

(GLO)- Viettel vừa cho ra mắt gói cước eSIM 5G tốc độ cao, mang đến trải nghiệm kết nối di động vượt trội với dung lượng 10GB/ngày, mức giá 125.000đ cho chu kỳ 30 ngày. Đây là ưu đãi độc quyền dành cho khách hàng hòa mạng mới eSIM.

Vì sao Google muốn đưa AI lên không gian?

Vì sao Google muốn đưa AI lên không gian?

(GLO)- Google đang thử nghiệm khả năng đưa chip trí tuệ nhân tạo (AI) lên quỹ đạo, nhằm nghiên cứu một hướng mới cho hạ tầng điện toán, trong bối cảnh nhu cầu năng lượng của AI ngày càng tăng.

Facebook, Instagram đồng loạt gặp sự cố vào sáng 21-9

Facebook, Instagram đồng loạt gặp sự cố vào sáng 21-9

(GLO)- Sáng 21-9, hàng loạt người dùng Facebook, Instagram và một số ứng dụng thuộc hệ sinh thái Meta bất ngờ gặp sự cố khi truy cập. Tình trạng này được ghi nhận tại nhiều quốc gia, trong đó có Việt Nam, gây ảnh hưởng đến hoạt động liên lạc, cập nhật thông tin và sử dụng mạng xã hội.

Trung Quốc tìm hướng phát triển chip dưới 3 nm không cần máy EUV

Trung Quốc thử sản xuất chip dưới 3 nm bằng công nghệ DUV

(GLO)- Trung Quốc đã đạt bước tiến ban đầu trong việc phát triển transistor Gate-All-Around (GAA) sử dụng công nghệ quang khắc cực tím sâu (DUV) để phát triển các chip dưới 3 nanomet (nm), trong bối cảnh bị hạn chế tiếp cận thiết bị quang khắc cực tím siêu cao (EUV) tiên tiến.

null