Apple phát triển màn hình chống chói cho iPhone 17

Theo dõi Báo Gia Lai trên Google News
Rộ tin đồn Apple phát triển công nghệ màn hình mới cho dòng iPhone 17.

Theo 9to5Mac, một tin đồn mới cho biết Apple đang đầu tư vào một công nghệ phủ mới cho màn hình iPhone trong tương lai. Công nghệ mới này được cho là sẽ giúp màn hình iPhone chống trầy xước tốt hơn và giảm thiểu độ phản xạ (chống chói), mang đến trải nghiệm hình ảnh tốt hơn cho người dùng.

Tuy nhiên, công nghệ mới này sẽ không kịp xuất hiện trên iPhone 16 ra mắt trong năm nay. Thay vào đó, Apple sẽ nhắm tới việc áp dụng nó cho dòng iPhone 17 được phát hành vào năm 2025.

Apple được cho sẽ trang bị màn hình chống chói cho iPhone 17

Apple được cho sẽ trang bị màn hình chống chói cho iPhone 17

Tin đồn này xuất phát từ tài khoản Instant Digital trên Weibo, một nguồn tin trước đây chia sẻ chính xác thông tin về các sản phẩm mà Apple chuẩn bị ra mắt. Theo Instant Digital, Apple đã đầu tư hàng tỉ USD vào công nghệ phủ màn hình mới và đã bàn giao công nghệ này cho các đối tác chuỗi cung ứng tại Trung Quốc.

Công nghệ phủ mới được cho là sẽ tạo ra một lớp chống chói "siêu cứng" trên màn hình iPhone. Lớp này sẽ giúp giảm thiểu trầy xước và phản xạ ánh sáng, mang đến hình ảnh hiển thị sắc nét và rõ ràng hơn, đặc biệt khi sử dụng dưới môi trường ánh sáng mạnh.

Hiện tại, màn hình iPhone sử dụng công nghệ Ceramic Shield do Apple và Corning hợp tác phát triển. Công nghệ mới mà Apple đang phát triển có vẻ tương tự như kính Gorilla Glass Armor của Corning. Kính Gorilla Glass Armor được giới thiệu đầu năm nay trên Samsung Galaxy S24 Ultra với khả năng giảm thiểu độ phản xạ tới 75% và cung cấp khả năng bảo vệ bổ sung chống trầy xước và các hư hỏng khác.

Đặc tính chống chói của màn hình Galaxy S24 Ultra (dưới) so với iPhone 15

Đặc tính chống chói của màn hình Galaxy S24 Ultra (dưới) so với iPhone 15

Với mối quan hệ hợp tác giữa Apple và Corning, rất có khả năng Apple sẽ áp dụng một số khía cạnh của Gorilla Glass Armor vào màn hình iPhone trong tương lai.

Có thể bạn quan tâm

Trung Quốc dùng AI lập bản đồ địa chất toàn sao Hỏa

Trung Quốc dùng AI lập bản đồ địa chất toàn sao Hỏa

(GLO)- Trung Quốc đặt mục tiêu đến cuối năm 2028 hoàn thành bản đồ địa chất thế hệ mới bao phủ toàn bộ sao Hỏa với sự hỗ trợ của trí tuệ nhân tạo (AI), phục vụ nghiên cứu lịch sử địa chất hành tinh đỏ và chuẩn bị cho sứ mệnh Thiên Vấn-3.

Singapore tăng tốc chuẩn bị vắc xin mRNA ứng phó đại dịch mới

Singapore tăng tốc chuẩn bị vắc xin mRNA ứng phó đại dịch mới

(GLO)- Singapore đang chuẩn bị hỗ trợ chương trình thí điểm phát triển và sản xuất vắc xin cúm mRNA trong nước, nhằm tăng cường năng lực ứng phó với các đại dịch tương lai, trong đó có nguy cơ từ một mầm bệnh chưa được xác định, được Tổ chức Y tế Thế giới (WHO) gọi là “Disease X”.

gia-lai-mua-eSIM Viettel-chi-125.000đ

Trải nghiệm vượt trội với eSIM Viettel

(GLO)- Viettel vừa cho ra mắt gói cước eSIM 5G tốc độ cao, mang đến trải nghiệm kết nối di động vượt trội với dung lượng 10GB/ngày, mức giá 125.000đ cho chu kỳ 30 ngày. Đây là ưu đãi độc quyền dành cho khách hàng hòa mạng mới eSIM.

Vì sao Google muốn đưa AI lên không gian?

Vì sao Google muốn đưa AI lên không gian?

(GLO)- Google đang thử nghiệm khả năng đưa chip trí tuệ nhân tạo (AI) lên quỹ đạo, nhằm nghiên cứu một hướng mới cho hạ tầng điện toán, trong bối cảnh nhu cầu năng lượng của AI ngày càng tăng.

Facebook, Instagram đồng loạt gặp sự cố vào sáng 21-9

Facebook, Instagram đồng loạt gặp sự cố vào sáng 21-9

(GLO)- Sáng 21-9, hàng loạt người dùng Facebook, Instagram và một số ứng dụng thuộc hệ sinh thái Meta bất ngờ gặp sự cố khi truy cập. Tình trạng này được ghi nhận tại nhiều quốc gia, trong đó có Việt Nam, gây ảnh hưởng đến hoạt động liên lạc, cập nhật thông tin và sử dụng mạng xã hội.

Trung Quốc tìm hướng phát triển chip dưới 3 nm không cần máy EUV

Trung Quốc thử sản xuất chip dưới 3 nm bằng công nghệ DUV

(GLO)- Trung Quốc đã đạt bước tiến ban đầu trong việc phát triển transistor Gate-All-Around (GAA) sử dụng công nghệ quang khắc cực tím sâu (DUV) để phát triển các chip dưới 3 nanomet (nm), trong bối cảnh bị hạn chế tiếp cận thiết bị quang khắc cực tím siêu cao (EUV) tiên tiến.

null