Nhiều tính năng của Google Assistant sẽ có trong Wear OS

Theo dõi Báo Gia Lai trên Google News

Google Assistant lần đầu tiên xuất hiện trên smartwatch vào năm ngoái thông qua sự xuất hiện của Android Wear 2.0 nhưng khá hạn chế tính năng cho đến bây giờ.
 

 

Theo Neowin, sau khi Google đổi tên nền tảng hệ điều hành smartwatch của mình thành Wear OS, nhiều tính năng hấp dẫn trên Google Assistant đã có khả năng hoạt động tốt hơn trên những đồng hồ chạy hệ điều hành này.

Thông tin được nêu ra trong bài đăng trên blog của Google, nơi công ty công bố 3 tính năng chính của Google Assistant sắp đến với Wear OS trong vài ngày tới. Các tính năng bao gồm tiếp tục cuộc trò chuyện với các đề xuất thông minh (chọn từ các câu hỏi hoặc câu trả lời có liên quan theo ngữ cảnh để tiếp tục cuộc trò chuyện); nghe câu trả lời cho câu hỏi của bạn (thay vì phải đọc nội dung trả lời, nó sẽ đọc lên cho bạn, rất hữu ích khi đang di chuyển); và làm được nhiều việc hơn từ sự tiện lợi của cổ tay (nơi bạn có thể tương tác với các hành động mà không cần phải rút điện thoại ra khỏi túi).

Google đã nói rằng bản cập nhật sẽ đến với Google Assistant trên Wear OS trong vài ngày tới, vì vậy có thể nó sẽ được cập nhật thông qua bản giới thiệu theo từng giai đoạn.

Kiến Văn/thanhnien

Có thể bạn quan tâm

Vì sao Google muốn đưa AI lên không gian?

Vì sao Google muốn đưa AI lên không gian?

(GLO)- Google đang thử nghiệm khả năng đưa chip trí tuệ nhân tạo (AI) lên quỹ đạo, nhằm nghiên cứu một hướng mới cho hạ tầng điện toán, trong bối cảnh nhu cầu năng lượng của AI ngày càng tăng.

Facebook, Instagram đồng loạt gặp sự cố vào sáng 21-9

Facebook, Instagram đồng loạt gặp sự cố vào sáng 21-9

(GLO)- Sáng 21-9, hàng loạt người dùng Facebook, Instagram và một số ứng dụng thuộc hệ sinh thái Meta bất ngờ gặp sự cố khi truy cập. Tình trạng này được ghi nhận tại nhiều quốc gia, trong đó có Việt Nam, gây ảnh hưởng đến hoạt động liên lạc, cập nhật thông tin và sử dụng mạng xã hội.

Trung Quốc tìm hướng phát triển chip dưới 3 nm không cần máy EUV

Trung Quốc thử sản xuất chip dưới 3 nm bằng công nghệ DUV

(GLO)- Trung Quốc đã đạt bước tiến ban đầu trong việc phát triển transistor Gate-All-Around (GAA) sử dụng công nghệ quang khắc cực tím sâu (DUV) để phát triển các chip dưới 3 nanomet (nm), trong bối cảnh bị hạn chế tiếp cận thiết bị quang khắc cực tím siêu cao (EUV) tiên tiến.

null