Tài khoản mạng xã hội không được đặt tên tài khoản giống với tên cơ quan báo chí

Theo dõi Báo Gia Lai trên Google News

(GLO)- Từ ngày 25-12, người sử dụng mạng xã hội phải chịu trách nhiệm về các nội dung đăng tải, không được để tên tài khoản trùng với tên các cơ quan báo, tạp chí.

ten-tai-khoan-mang-xa-hoi-khong-duoc-giong-ten-co-quan-bao-chi-tu-ngay-25-12-2024-anh-thuvienphapluatvn.jpg
Tên tài khoản mạng xã hội không được giống tên cơ quan báo chí từ ngày 25-12-2024. Ảnh thuvienphapluat.vn

Đây là một trong những quy định đáng chú ý tại Nghị định số 147/2024/NĐ-CP ngày 9-11-2024 về việc quản lý, cung cấp, sử dụng dịch vụ internet và thông tin trên mạng do Chính phủ ban hành, có hiệu lực từ ngày 25-12-2024.

Theo đó, chủ tài khoản, chủ kênh nội dung, chủ trang cộng đồng, người quản trị nhóm cộng đồng trên mạng xã hội không được đặt tên tài khoản, trang, kênh, nhóm giống hoặc trùng với tên cơ quan báo chí hoặc có những từ ngữ (bằng tiếng Việt hoặc tiếng nước ngoài tương đương) có thể gây nhầm lẫn là cơ quan báo chí hoặc hoạt động báo chí như: báo, đài, tạp chí, tin, tin tức, phát thanh, truyền hình, truyền thông, thông tấn, thông tấn xã. Phải chịu trách nhiệm quản lý nội dung đăng tải trên tài khoản, trang cộng đồng, nhóm cộng đồng hoặc kênh nội dung của mình…

Có thể bạn quan tâm

Vì sao Google muốn đưa AI lên không gian?

Vì sao Google muốn đưa AI lên không gian?

(GLO)- Google đang thử nghiệm khả năng đưa chip trí tuệ nhân tạo (AI) lên quỹ đạo, nhằm nghiên cứu một hướng mới cho hạ tầng điện toán, trong bối cảnh nhu cầu năng lượng của AI ngày càng tăng.

Facebook, Instagram đồng loạt gặp sự cố vào sáng 21-9

Facebook, Instagram đồng loạt gặp sự cố vào sáng 21-9

(GLO)- Sáng 21-9, hàng loạt người dùng Facebook, Instagram và một số ứng dụng thuộc hệ sinh thái Meta bất ngờ gặp sự cố khi truy cập. Tình trạng này được ghi nhận tại nhiều quốc gia, trong đó có Việt Nam, gây ảnh hưởng đến hoạt động liên lạc, cập nhật thông tin và sử dụng mạng xã hội.

Trung Quốc tìm hướng phát triển chip dưới 3 nm không cần máy EUV

Trung Quốc thử sản xuất chip dưới 3 nm bằng công nghệ DUV

(GLO)- Trung Quốc đã đạt bước tiến ban đầu trong việc phát triển transistor Gate-All-Around (GAA) sử dụng công nghệ quang khắc cực tím sâu (DUV) để phát triển các chip dưới 3 nanomet (nm), trong bối cảnh bị hạn chế tiếp cận thiết bị quang khắc cực tím siêu cao (EUV) tiên tiến.

null