Nước rửa chén mới làm từ cồn bia

Theo dõi Báo Gia Lai trên Google News

Lượng cồn rất lớn tồn dư sau sản xuất loại bia không cồn đã tìm được lối thoát mới rất hữu ích: làm nguyên liệu cho loại nước rửa chén mới.

 

Tom Domen, quản lý sáng tạo của Công ty Ecover - trụ sở tại Bỉ, giới thiệu loại nước rửa chén làm từ cồn sau sản xuất bia - Ảnh: REUTERS
Tom Domen, quản lý sáng tạo của Công ty Ecover - trụ sở tại Bỉ, giới thiệu loại nước rửa chén làm từ cồn sau sản xuất bia - Ảnh: REUTERS



Bia không độ cồn đang tìm được chỗ đứng của mình khi người tiêu dùng có xu hướng tìm kiếm đồ uống lành mạnh hơn. Phục vụ nhu cầu này khiến các công ty sản xuất bia không cồn tồn dư một lượng cồn lớn sau sản xuất.

Câu hỏi là phải làm sao để xử lý lượng cồn sau sản xuất ngày một tăng lên theo số lượng bia không cồn được bán ra thị trường? Theo Hãng tin Reuters, Công ty bia Anheuser-Busch InBev, nhà sản xuất bia lớn nhất thế giới, trụ sở tại Bỉ, đã hợp tác với các nhà khoa học để tìm ra giải pháp.

David De Schutter, giám đốc sáng tạo và công nghệ của Anheuser-Busch InBev, cho biết họ hợp tác với  Ecover - một công ty sáng tạo ở Bỉ - và thành công trong việc tìm ra cách tận dụng lượng cồn dư thừa.

Nhận thấy lượng cồn bia có tác dụng như một chất làm sạch và bảo quản hoạt tính, các nhà nghiên cứu đã chế tạo ra một loại nước rửa chén mới có 1/4 thành phần từ chất cồn thu được sau quá trình sản xuất bia không độ cồn.

Ngoài ra, Công ty Anheuser-Busch InBev còn tìm cách tận dụng những phụ phẩm sau sản xuất như nghiên cứu chế biến chất bã từ ngũ cốc lên men thành thịt thực vật cho người ăn chay thay vì dùng làm thức ăn gia súc như lâu nay.

Theo Hồng Vân (TTO)

Có thể bạn quan tâm

Vì sao Google muốn đưa AI lên không gian?

Vì sao Google muốn đưa AI lên không gian?

(GLO)- Google đang thử nghiệm khả năng đưa chip trí tuệ nhân tạo (AI) lên quỹ đạo, nhằm nghiên cứu một hướng mới cho hạ tầng điện toán, trong bối cảnh nhu cầu năng lượng của AI ngày càng tăng.

Trung Quốc tìm hướng phát triển chip dưới 3 nm không cần máy EUV

Trung Quốc thử sản xuất chip dưới 3 nm bằng công nghệ DUV

(GLO)- Trung Quốc đã đạt bước tiến ban đầu trong việc phát triển transistor Gate-All-Around (GAA) sử dụng công nghệ quang khắc cực tím sâu (DUV) để phát triển các chip dưới 3 nanomet (nm), trong bối cảnh bị hạn chế tiếp cận thiết bị quang khắc cực tím siêu cao (EUV) tiên tiến.

null