Vượt iPhone X, Galaxy S9 là smartphone có màn hình đẹp nhất

Theo dõi Báo Gia Lai trên Google News

DisplayMate đánh giá khả năng hiển thị màu sắc trên màn hình Galaxy S9 có độ chính xác cao.

 Màn hình Galaxy S9 được đánh giá rất cao.
Màn hình Galaxy S9 được đánh giá rất cao.



Ngay sau khi ra mắt, Galaxy S9 đã được chuyên trang đánh giá màn hình DisplayMate thử nghiệm. Kết quả, smartphone mới của Samsung được nhận xét là "hoàn hảo" với màu sắc hiển thị gần chính xác so với thực tế nhất. Máy đã vượt qua smartphone có màn hình đẹp nhất trước đó là iPhone X để vươn lên vị trí dẫn đầu.

 Cụ thể, các chuyên gia của DisplayMate cho rằng màn hình Super AMOLED của Galaxy S9 có mức độ chính xác cao, khó phân biệt được màu sắc giữa cảnh thực tế và ảnh hiển thị trong máy bằng mắt thường. Máy cũng có độ sáng cao nhất, lên tới 1.130 nits, cho phép hiển thị tốt hơn ở môi trường có ánh sáng mạnh. Với việc vượt qua mốc 1.000 nits về độ sáng, máy cũng đạt chứng nhận Mobile HDR.

Màn hình Galaxy S9 cũng được đánh giá cao về khả năng hiển thị với gam màu DCI-P3 đầy đủ (lớn hơn 26% so với Rec.709 được sử dụng trong tivi 2K, Full HD) và chế độ Digital Camera (sử dụng trong tivi 4K). Màn hình máy còn cho tỷ lệ tương phản cao nhất (vô hạn), phản xạ hình ảnh thấp nhất (4,4%), khả năng thay đổi ánh sáng nhỏ nhất theo góc nhìn (29% ở góc 30 độ)...

 

Độ chính xác màu sắc của màn hình Galaxy S9.
Độ chính xác màu sắc của màn hình Galaxy S9.



Ngoài ra, độ phân giải cao (2.960 x 1.440 pixel, 570 ppi), góc nhìn rộng, tăng cường hiển thị màu sắc khi thay đổi góc nhìn, chế độ hiển thị tối ưu cho người khiếm thị... cũng được đánh giá cao. Tổng thể, điểm mà DisplayMate đưa ra cho Galaxy S9 là A+, cao nhất trên thang điểm của chuyên trang này.

DisplayMate là chuyên trang đánh giá, kiểm nghiệm về tiêu chuẩn và chất lượng của nhiều loại thiết bị. Bên cạnh thiết bị di động, công ty này còn đánh giá chất lượng hiển thị của máy chiếu, màn chiếu, màn hình di động, tivi... Kết quả kiểm nghiệm được đánh giá là uy tín, được nhiều hãng sản xuất phần cứng và phần mềm lấy làm tham chiếu.

Bảo Lâm (VNE)

Có thể bạn quan tâm

Trung Quốc dùng AI lập bản đồ địa chất toàn sao Hỏa

Trung Quốc dùng AI lập bản đồ địa chất toàn sao Hỏa

(GLO)- Trung Quốc đặt mục tiêu đến cuối năm 2028 hoàn thành bản đồ địa chất thế hệ mới bao phủ toàn bộ sao Hỏa với sự hỗ trợ của trí tuệ nhân tạo (AI), phục vụ nghiên cứu lịch sử địa chất hành tinh đỏ và chuẩn bị cho sứ mệnh Thiên Vấn-3.

Singapore tăng tốc chuẩn bị vắc xin mRNA ứng phó đại dịch mới

Singapore tăng tốc chuẩn bị vắc xin mRNA ứng phó đại dịch mới

(GLO)- Singapore đang chuẩn bị hỗ trợ chương trình thí điểm phát triển và sản xuất vắc xin cúm mRNA trong nước, nhằm tăng cường năng lực ứng phó với các đại dịch tương lai, trong đó có nguy cơ từ một mầm bệnh chưa được xác định, được Tổ chức Y tế Thế giới (WHO) gọi là “Disease X”.

gia-lai-mua-eSIM Viettel-chi-125.000đ

Trải nghiệm vượt trội với eSIM Viettel

(GLO)- Viettel vừa cho ra mắt gói cước eSIM 5G tốc độ cao, mang đến trải nghiệm kết nối di động vượt trội với dung lượng 10GB/ngày, mức giá 125.000đ cho chu kỳ 30 ngày. Đây là ưu đãi độc quyền dành cho khách hàng hòa mạng mới eSIM.

Vì sao Google muốn đưa AI lên không gian?

Vì sao Google muốn đưa AI lên không gian?

(GLO)- Google đang thử nghiệm khả năng đưa chip trí tuệ nhân tạo (AI) lên quỹ đạo, nhằm nghiên cứu một hướng mới cho hạ tầng điện toán, trong bối cảnh nhu cầu năng lượng của AI ngày càng tăng.

Facebook, Instagram đồng loạt gặp sự cố vào sáng 21-9

Facebook, Instagram đồng loạt gặp sự cố vào sáng 21-9

(GLO)- Sáng 21-9, hàng loạt người dùng Facebook, Instagram và một số ứng dụng thuộc hệ sinh thái Meta bất ngờ gặp sự cố khi truy cập. Tình trạng này được ghi nhận tại nhiều quốc gia, trong đó có Việt Nam, gây ảnh hưởng đến hoạt động liên lạc, cập nhật thông tin và sử dụng mạng xã hội.

Trung Quốc tìm hướng phát triển chip dưới 3 nm không cần máy EUV

Trung Quốc thử sản xuất chip dưới 3 nm bằng công nghệ DUV

(GLO)- Trung Quốc đã đạt bước tiến ban đầu trong việc phát triển transistor Gate-All-Around (GAA) sử dụng công nghệ quang khắc cực tím sâu (DUV) để phát triển các chip dưới 3 nanomet (nm), trong bối cảnh bị hạn chế tiếp cận thiết bị quang khắc cực tím siêu cao (EUV) tiên tiến.

null